11月6日讯：佳能公司最新研发的纳米压印设备有望成为芯片制造领域的重要参与者，尤其对小型制造商来说更具吸引力。据公司首席执行官Fujio Mitarai表示，该设备的价格将比荷兰ASML的光刻机少一位数，但具体定价尚未确定。此外，佳能的纳米压印设备功耗仅为光刻机的十分之一。
目前台积电等大型代工企业使用功耗为百万瓦的光刻机，在全球市场上占据主导地位。如果引入更先进的下一代光刻机，这些企业的能源消耗将会大幅增加。然而，佳能新设备的上市打破了少数现金充裕的头部公司垄断芯片制造的局面，小公司或许不再需要通过代工厂商来进行芯片生产，这将对促进芯片竞争起到至关重要的作用。
尽管佳能的纳米压印技术不太可能超越ASML的光刻机，但Mitarai认为它将创造新的机会和需求，并已有多家客户表达了采购意向。与传统复杂的光学光刻技术相比，纳米压印技术采用简单微复型原理，在印章上刻入栅极长度只有几纳米的电路图案后，在橡皮泥上盖上该印章即可得到与印章相反的图案。这种技术成本较低且不需要镜头，可以在比现有曝光工艺更低的成本下实现精细化芯片制造。
然而，由于纳米压印技术在速度上较光刻机逊色不少，因此ASML的光刻机仍然是当今世界上最先进的芯片制造设备之一。尽管佳能机器更适合小型芯片生产商，并让大型代工商如台积电和三星电子更容易生产小批量芯片以节约成本，但其竞争力仍不及ASML。另外，据悉佳能正在建设自己的第一家纳米压印设备工厂，并计划于2025年上线。
