荷兰ASML独家供应极紫光光EUV曝光设备众所皆知，而南韩一家芯片设备制造商FST自2010年以来一直在开发EUV相关设备，并获得三星电子430亿韩元的投资，也正加速EUV生态系设备及零件的在地化生产。
三星电子、台积电、英特尔等都竞相争取ASML供应高数值孔径 EUV设备，这被认为是下一代EUV设备和2纳米以下制程的关键设备。 据了解，EUV制程不仅在系统半导体中引入，而且在DRAM前端制程中也已采用，三星电子和SK海力士都在使用EUV设备向早期的10纳米DRAM制程进行转换。
加速EUV生态系设备及零件在地化生产 三星持股投资
因此，FST多年以来一直在开发EUV相关设备，并提供EUV防护膜附着和分离设备、检查等设备。 在EUV生态系统中，FST是一家韩国本土半导体设备公司，在EUV曝光工艺中使用的本土设备和零件生产方面处于领先地位。
2021年，三星电子向FST投资430亿韩元用于技术开发合作，根据去年第三季报告，三星电子拥有FST 7%的股份。
FST 总经理Jeong说：「随着EUV相关工艺生态系统的蓬勃发展，我们已开始与主要客户合作开发用于EUV的设备。」 他补充道，随着制程本身变得更加先进，对EUV的需求也越来越大“; 「装备已经多样化，我们已做到目前的完整装备阵容」。
Jeong表示，EUV相关设备的国产化成功的原因在于开发「薄膜」的竞争力。 他说，由于我们长期以来一直在自行开发薄膜，因此我们能够开发与薄膜相关的设备。
FST 还开发可以检查EUV掩模图案上的颗粒的宏观检查设备。 FST也正在准备应对随着制程过渡到「高数值孔径(高NA)」而发生的变化对策。 晶圆代工产业供应高NA设备的竞争正加剧，而高NA设备是ASML最近发布的下一代EUV设备，被认为是2纳米制程的关键设备。
