Canon采用「奈米压印」技术的微影设备首度进行出货、对象为美国半导体联盟「Texas Institute for Electronics」。 NIL微影设备可用来生产5纳米芯片，且经过改良、将可进一步用来生产2纳米芯片。 而Canon表示，目标3-5年内、每年卖出十几台。
Canon 26日发布新闻稿宣布，采用「NIL」技术、可用低成本制造高性能先进芯片的微影设备「FPA-1200NZ2C」将在当日出货给位于美国德州的半导体联盟「TIE」。 此为Canon宣布在2023年10月开始贩售NIL微影设备后、首度进行出货。
TIE设立于2021年、是由德州大学奥斯汀分校支持成立的半导体联盟，由德州当地政府、半导体企业、国立研究所等所组成，而TIE将使用NIL微影设备研发、试产先进半导体。
据Canon指出，NIL微影设备可用来生产5纳米逻辑芯片，且经由改良、期待可进一步用来生产2纳米产品。
日经新闻报导，Canon光学设备事业本部副本部长岩本和德26日受访表示，目标在3-5年内、每年卖出十几台。
有别于现行的微影设备须藉由曝光、将电路图案烧在晶圆上，NIL技术则是可像印章一样、直接将图案压印在晶圆上，因可一次性就形成电路，缩短制程时间、更省电。 Canon在10年前就和日本光罩厂大日本印刷、铠侠(当时为东芝)携手研发NIL技术。
Canon执行长御手洗富士夫2023年11月接受外媒采访时表示，最新NIL技术让小型半导体厂也有机会生产目前几乎全由大企业寡占的先进芯片。 他说，「机台售价将比阿斯麦的极紫外光微影设备少一位数」。
御手洗表示，NIL设备需要的电力只要EUV机台的1/10;虽然NIL应该难以取代EUV，但相信这能创造新的机会和需求，已有许多客户前来洽询。
Canon 7月25日公布财报新闻稿指出，因生成式AI投资旺盛、推升半导体微影设备预估将持续呈现高速成长，因此今年度(2024年1-12月)合并营收目标自原先预估的4.35兆日元上修至4.6兆日元、将年增10.0%，年营收将超越2007年度(4.48兆日元)、创下历史新高纪录; 合并营益自原先预估的4350亿日元上修至4650亿日元、将年增23.9%; 合并纯益目标自3050亿日元上修至3350亿日元、将年增26.6%。
Canon预估今年度半导体微影设备销售量将为244台、将较上年度(187台)大增3成。
