日本企业佳能已将第一台纳米压印曝光机运送到美国德州电子研究所，供其研发实验室使用，此项压印曝光技术不需要光源，有别于荷兰芯片制造设备商阿斯麦生产的极紫外线曝光机。
去年10月，佳能透露，正在将使用纳米压印曝光技术的半导体制造系统商业化，其第一个实施方案将是一个房间大小的设备，名称为FPA-1200NZ2C。
现在，佳能已将其中一个纳米压印曝光机运送给德州电子研究所，这是一个成立于2021年的半导体联盟，得到德州学奥斯汀分校，以及众多芯片公司和其他公共部门和学术机构的支持。 该机器将用作先进半导体研发和原型生产的一部分。
据佳能称，与使用更传统光学方法的竞争对手相比，其纳米压印制程更便宜，功耗也更少，它不需要光源，而在ASML的最新设备中，光源涉及难以使用的极紫外线波长。
