美国商务部指出，政府投资价值约8.25亿美元研究中心，以开发下一代极紫外光制程技术，挑战荷兰产业领导者阿斯麦。
报导指出，美国政府支助价值8.25亿美元的EUV曝光设备将设于阿尔巴尼奈米科技综合园区，成为首个「为美国芯片而生」计画的研发旗舰中心，并将获得额外用户资金。
据报道，半导体设备商应材预计将成为主要参与者之一，以直接与ASML竞争
ASML在今年6月与比利时的微电子研究中心合作，开设类似实验室。
EUV设备将专注开发最先进的高数值孔径EUV研发。 美国表示，EUV曝光技术已成为达成7纳米以下晶体管大量生产的关键技术，包括台积电等主要芯片制造商都采取相关技术。
美国政府表示，获得EUV曝光设备的研发，对于扩大美国的技术领先地位、减少原型设计的时间，以及成本、建立和维持半导体劳动力生态系统至关重要。
报导指出，美国国家半导体技术中心及母组织Natcast成员将于明年获得标准EUV曝光设备的使用权，并于后年获得高数值孔径曝光机的使用权。
ASML已向英特尔提供高数值孔径EUV机器。
